電子
【專輯】
| UPS 技術的發展動向 | 專欄--電子電路 | 微機電系統 |
| UPS | 處理 | 感測與致動元件 |
| 主機板 | 通訊 | 電力電子 |
| 半導體量測與分析 | 報導--市場與投資 | 電子工業材料 |
| 半導體製程設備 | 報導--技術、產品 | 電源供應器與功率元件 |
| 半導體廠務設計 | 報導--座談會記要 | 電腦與多媒體 |
| 光電 | 報導--專利園地 | 電腦輔助積體電路設計 |
| 高畫質電視與互動電視 | 報導--電子人語 | 影像掃描器 |
| 電子工業發展動向 | 無線通訊技術 | 數位多功能光碟 |
| 專欄--半導體設備 | 硬碟機 | 積體電路測試 |
| 專欄--半導體製程 | 微控制器 | 積體電路製程技術 |
| 專欄--光電技術 | 微電子構裝技術 | 顯示器 |
| 專欄--單晶片園地 |
【文章範例】
期別：0031
期刊別：電子月刊
出版商：機械月刊雜誌社
日期：1998/02/01
類別：專欄
起始頁：112
篇名：半導體製程--再談雷射晶圓清洗新方法
作者：陳明江
頁數：9
摘要：
筆者曾在電子月刊(1996年8月號)介紹過一種革命性的雷射晶圓清洗處理法。這種新的方法不需用水及化學品，加上設備與清洗成本都低於目前所普遍採用的水浩或加化學品的方法，是一種十足環保的方法。事隔多月，雷射清洗法已引起廣泛的討論，近日筆者再訪美國時，又見經過大幅改良的類似新方法被提，出，實驗數據與證明更加肯定，其清除污染粒子的實用性及可信賴度。原文刊載於1997年3月號FUTURE FAB INTERNATIONAL雜誌，經商得原作者同意，特別摘譯，以饗讀者。
這篇報導所要敘述的是一種獨創的，專利的紫外光反應的清洗技術。讀者可能注意到它與筆者在先前發表文章中敘述有所不同的是「光反應」一詞。
基本上，從測試數據來看這項科技在半導體外、薄膜讀寫頭、光碟、及平面顯示器(LCD)等的清洗都有很好的潛力，以下我們將進一步探討這項新技術。
【特有單元】
新產品介紹、書籍介紹、中華民國專利篇
國際會議、展覽會、展示會、廠商動態、市場與投資等消息